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新版國際專利分類

2005年12月13日

國際專利分類 (IPC) 是一種階層式系統 (hierarchical system),此系統將整個技術領域區分為部門 (section)、類別 (class)、次類 (subclass) 以及群組 (group)。在檢索專利文件或判斷特定技術領域的發展狀態時,可以充分利用專利分類系統當作尋找專利文獻的導引。IPC 會定期加以更新,以改進分類系統的缺失並納入最新的科技發展情況。目前的版本 (第七版) 將於 2005 年 12 月 31 日終止適用,第八版則將於 2006 年 1 月 1 日起生效。關於 IPC 第八版的細節,可參酌 WIPO 官方網站所提供的分類指南 (Guide)。

美國專利分類系統 (the U.S. Patent Classification system, USPC) 與 IPC 並列兩大專利分類系統。美國專利商標局 (USPTO) 的網站提供有線上專利分類查詢系統,其中一項 USPC 與 IPC 之間的調和索引 (concordance) 功能可以查詢兩種不同分類系統的分類對應。

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